氬離子設(shè)備

對(duì)于表面分析，樣品表面極易被污染。

為了清潔被污染的固體表面,在能譜分析中,常常利用離子設(shè)備發(fā)出的離子束對(duì)樣品表面進(jìn)行濺射剝離,以清潔表面。

利用離子設(shè)備發(fā)出的離子束定量地剝離一定厚度的表面層,然后再分析表面成分,這樣就可以獲得元素成分沿深度方向的分布圖。

同時(shí)，離子設(shè)備也兼具中和樣品表面荷電的作用。

一、氬離子設(shè)備原理圖

▲ 圖1 氬離子設(shè)備原理圖

二、氬離子設(shè)備實(shí)圖

▲圖2 氬離子設(shè)備圖

三、氬離子設(shè)備主要作用

> 清潔(樣品表面被污染)

清潔被污染的樣品表面,利用離子設(shè)備發(fā)出的離子束對(duì)樣品表面進(jìn)行濺射剝離,以清潔表面

> 濺射(對(duì)樣品進(jìn)行深度剖析)

利用離子設(shè)備發(fā)出的離子束定量地剝離一定厚度的表面層,然后再分析表面成分,以獲得元素成分沿樣品深度方向的分布

> 荷電中和

中和樣品表面的荷電 

四、氬離子設(shè)備多種參數(shù)設(shè)定

根據(jù)樣品需要設(shè)置多種參數(shù)選擇性

 ▲圖3 氬離子設(shè)備多種參數(shù)選擇

五、不同設(shè)備儀器的氬離子設(shè)備

▲圖4 氬離子設(shè)備在XPS上 

 ▲圖5 氬離子設(shè)備在PHI710上 

▲圖6 氬離子設(shè)備在TOF-SIMS上

六、簡易便捷的氬離子設(shè)備燈絲實(shí)體圖

▲ 圖7 XPS的氬離子設(shè)備燈絲 

▲ 圖8 PHI710的氬離子設(shè)備燈絲 

▲圖9 TOF-SIMS的氬離子設(shè)備燈絲

結(jié)語

氬離子設(shè)備已廣泛應(yīng)用在各表面分析設(shè)備上，且可以根據(jù)樣品進(jìn)行參數(shù)的設(shè)定選擇，是進(jìn)行表面分析不能缺少的構(gòu)件。

-轉(zhuǎn)載于《PHI表面分析 UPN》公眾號(hào)